提升低对比度半导体材料的ID读取精度在半导体制造场景中,低对比度激光刻码、高反射表面及严苛的公差要求使ID识别面临重大挑战。本文介绍如何通过视觉方案实现晶圆边缘OCR、载具环编码及基板标记的精准可靠识别,确保生产全流程的完整可追溯性。
进阶长曝光成像视觉方案:热噪声与热像素抑制技术长曝光成像技术是检测细微缺陷的关键手段(如显示面板坏点检测或半导体微弱信号捕捉),其通过延长传感器积分时间提升信噪比。但在低照度检测场景中,长曝光时间会导致CMOS/CCD传感器产生热噪声积累。